磁控溅射Ti-W-N和Ti-W-N/MoS2薄膜的制备及摩擦学性能研究的开题报告一、研究背景和意义钨是一种重要的高温结构材料，在制造高温构件和耐磨件等领域有广泛的应用。钨的摩擦学性能并不理想，主要表现为磨损、摩擦系数较大等问题。为了改善钨的摩擦学性能，通常采用钨合金化的方法。而Ti-W-N和Ti-W-N/MoS2薄膜是一种新型的钨合金化方法，其具有良好的耐磨性、腐蚀性和高温稳定性等特点，在机械、电子、航空等领域有着广泛的应用。二、研究目的本文旨在研究磁控溅射Ti-W-N和Ti-W-N/MoS2薄膜的制备方法和摩擦学性能，进一步优化制备工艺和改善摩擦学性能。三、研究内容和方法（一）磁控溅射Ti-W-N和Ti-W-N/MoS2薄膜的制备方法本文将采用磁控溅射的方法制备Ti-W-N和Ti-W-N/MoS2薄膜，通过改变制备工艺参数（如溅射功率、靶材组成、气氛等）来控制薄膜的厚度、成分和微观结构。同时，对制备过程中的工艺参数、设备参数和溅射条件等进行优化，以实现制备高品质的薄膜。（二）Ti-W-N和Ti-W-N/MoS2薄膜的表征分析通过X射线衍射分析、扫描电子显微镜分析等手段对制备的薄膜进行成分、组织结构和形貌等方面的表征分析，以确定薄膜的物理化学性质和微观结构。（三）Ti-W-N和Ti-W-N/MoS2薄膜的摩擦学性能研究通过摩擦学实验检测Ti-W-N和Ti-W-N/MoS2薄膜的摩擦系数、磨损量等指标，探究其摩擦学性能，并对其性能进行对比分析。四、预期研究结果预计能够得到优化的制备工艺和高品质的Ti-W-N和Ti-W-N/MoS2薄膜，同时探究其摩擦学性能，并提出改善措施，为相关领域的应用提供技术支持和理论参考。五、研究进度安排1.文献综述：2022年1月-2022年2月2.薄膜制备：2022年3月-2022年6月3.薄膜表征：2022年7月-2022年9月4.摩擦学性能研究：2022年10月-2023年1月5.数据分析和论文撰写：2023年2月-2023年4月6.论文修改和答辩准备：2023年5月-2023年6月六、研究经费预算磁控溅射设备使用费：5000元/月×12个月=6万元材料采购费用：3万元实验室耗材费用：2万元合计：11万元