NiO基稀磁半导体的结构及磁性研究的中期报告本研究旨在研究NiO基稀磁半导体的结构及其磁性质，目前已完成实验数据的采集和初步分析。以下是我们的中期报告。实验方法：我们采用溶胶-凝胶法制备NiO基稀磁半导体样品，并使用X射线衍射（XRD）和磁性测试仪对其进行表征。具体步骤如下：1.首先，我们将Ni（NO3）2·6H2O和Fe（NO3）3·9H2O加入90ml乙二醇中，并用磁子搅拌器搅拌至完全溶解，制备NiFeLDH先驱体；2.将上述溶液加入过量氨水中，并搅拌30min，得到混合溶液，pH值为12；3.在改变混合溶液浓度后，将其放入烘箱中，烘干至固态样品，并进行退火处理；4.采用XRD对制备的样品进行晶体结构表征；5.使用磁性测试仪对样品进行磁性测试。实验结果：在制备的样品中，XRD表征显示NiO基稀磁半导体样品呈现NiO和Fe2O3的掺杂行为，晶胞参数分别为4.19Å和5.04Å。磁性测试表明样品仅具有低磁响应，呈现出弱磁性行为。磁滞回线图呈“S”型状，属于磁性顺磁性材料。经XRD分析，样品中为NiFeLDH掺杂物，表明NiO基稀磁半导体样品属于掺杂型磁半导体。结论：在本次研究中，我们成功制备了NiO基稀磁半导体样品，并对其晶体结构和磁性行为进行了初步表征。实验结果表明，样品为NiO和Fe2O3的掺杂型磁半导体，具有低磁响应，属于磁性顺磁性材料。这将为进一步研究NiO基稀磁半导体的物理性质提供基础。