SU--8胶薄膜应力梯度测量方法研究的开题报告1.研究背景SU-8胶是一种常用的光刻胶，可以用于微纳制造的许多领域，如微机电系统（MEMS）、微流控系统等。在SU-8的制造过程中，胶薄膜的应力梯度会对器件的性能和可靠性产生影响，因此对SU-8胶薄膜应力梯度进行测量和分析具有重要的意义。2.研究目的和意义本研究旨在探索一种可靠的SU-8胶薄膜应力梯度测量方法，以提高微纳制造技术的可靠性和精度。具体目的包括：（1）研究不同形式的应力梯度对器件性能的影响。（2）探索一种可靠的胶薄膜应力梯度测量方法，提供可靠的数据支撑。（3）分析应力梯度测量结果对器件性能的影响，并改善微纳制造过程。3.研究内容和方法（1）样品制备：通过使用不同的光刻图形制备不同形状的SU-8胶薄膜。（2）应力梯度测量方法探索：探索SU-8胶薄膜应力梯度测量方法，包括但不限于点阵法、XRD法等。（3）应力梯度对器件性能的影响：通过测量各样品的性能参数，分析胶薄膜应力梯度对器件性能的影响。（4）结果分析：对实验结果进行分析，优化SU-8制作工艺。4.研究预期成果（1）研究出一种可靠的SU-8胶薄膜应力梯度测量方法。（2）探究不同形式的应力梯度对器件性能的影响，为器件性能的优化提供数据支持。（3）分析应力梯度测量结果的准确性和实用性，并提供改善微纳制造过程的有效途径。5.研究进度安排时间节点研究内容第1-2周文献调研和综述撰写第3-4周胶薄膜制备和实验样品准备第5-6周应力梯度测量方法探索第7-8周实验数据的处理和分析第9-10周结果分析和论文撰写第11周论文修改和总结6.参考文献[1]林里.微纳加工技术教程[M].北京:化学工业出版社,2011.[2]赵威强.微纳加工中SU-8胶的应用及其发展新趋势[J].微纳电子技术,2019(4):75-77.[3]HeY,WangX,WangY,etal.Measurementofresidualstressesdistributioninmicro-scaleNiTithinFilms[J].JournalofMicromechanicsandMicroengineering,2010,20(8):1-8.[4]LiuY,CuiL,GeY,etal.AsimpleandeffectivemethodtomeasuretheresidualstressdistributionofMEMSfilmsbasedonX-raydiffraction[J].MicrosystemTechnologies,2021,27(7):1943-1951.