0.5微米掩模制造曝光及显影工艺改进的中期报告本项目旨在探究0.5微米掩模制造的曝光及显影工艺，通过改进工艺提高掩模的制造质量和效率。目前我们已完成了一部分实验和数据分析。以下是我们的中期报告：1.实验设计为了探究最佳曝光参数和显影工艺，我们设计了以下实验：1）曝光能量的影响：制备一批掩模，在曝光时间一定的情况下，改变曝光能量，分别为80mJ/cm²、100mJ/cm²、120mJ/cm²、140mJ/cm²、160mJ/cm²。然后测量掩模的线宽、线间距和深度。2）曝光时间的影响：制备一批掩模，在曝光能量一定的情况下，改变曝光时间，分别为2s、3s、4s、5s、6s。然后测量掩模的线宽、线间距和深度。3）显影时间的影响：制备一批掩模，在曝光能量和时间均定为120mJ/cm²和4s的情况下，改变显影时间，分别为30s、45s、60s、75s、90s。然后测量掩模的线宽、线间距和深度。2.实验结果1）曝光能量的影响：当曝光能量为100mJ/cm²时，掩模的线宽最小，线间距最大，深度最浅；当曝光能量为120mJ/cm²时，掩模的线宽和线间距的误差最小，深度最合适；当曝光能量大于140mJ/cm²时，掩模的线宽、线间距和深度均受到较大影响。2）曝光时间的影响：当曝光时间为4s时，掩模的线宽、线间距和深度的误差均最小；当曝光时间小于3s或大于5s时，掩模的线宽、线间距和深度均受到影响。3）显影时间的影响：当显影时间为60s时，掩模的线宽、线间距和深度的误差均最小；当显影时间小于45s或大于75s时，掩模的线宽、线间距和深度均受到较大影响。3.结论及下一步工作通过上述实验，我们得出了以下结论：1）曝光能量对掩模的线宽、线间距和深度有较大的影响，最佳曝光能量为120mJ/cm²。2）曝光时间对掩模的线宽、线间距和深度也有较大的影响，最佳曝光时间为4s。3）显影时间对掩模的线宽、线间距和深度也有一定的影响，最佳显影时间为60s。下一步，我们将继续优化曝光和显影工艺，进一步提高掩模的制造质量和效率。