太阳能电池工艺流程制绒和清洗概述硅片表面的机械损伤层制绒：表面织构化绒面腐蚀原理绒面光学原理绒面光学原理影响绒面质量的关键因素化学清洗原理扩散扩散的目的：形成PN结１．三氯氧磷（POCl3）液态源扩散２．喷涂磷酸水溶液后链式扩散３．丝网印刷磷浆料后链式扩散本公司目前采用的是第一种方法。清洗扩散装置示意图POCl3磷扩散原理在有氧气的存在时，POCl3热分解的反应式为：POCl3分解产生的P2O5淀积在硅片表面，P2O5与硅反应生成SiO2和磷原子，并在硅片表面形成一层磷-硅玻璃，然后磷原子再向硅中进行扩散。由上面反应式可以看出，POCl3热分解时，如果没有外来的氧（O2）参与其分解是不充分的，生成的PCl5是不易分解的，并且对硅有腐蚀作用，破坏硅片的表面状态。但在有外来O2存在的情况下，PCl5会进一步分解成P2O5并放出氯气（Cl2）其反应式如下：生成的P2O5又进一步与硅作用，生成SiO2和磷原子，由此可见，在磷扩散时，为了促使POCl3充分的分解和避免PCl5对硅片表面的腐蚀作用，必须在通氮气的同时通入一定流量的氧气。影响扩散的因素在太阳电池扩散工艺中，扩散层薄层电阻（方块电阻）是反映扩散层质量是否符合设计要求的重要工艺指标之一。方块电阻也是标志进入半导体中的杂质总量的一个重要参数。方块电阻的定义等离子体刻蚀等离子体刻蚀模型等离子体刻蚀原理首先，母体分子CF4在高能量的电子的碰撞作用下分解成多种中性基团或离子。其次，这些活性粒子由于扩散或者在电场作用下到达SiO2表面，并在表面上发生化学反应。生产过程中，CF4中掺入O2，这样有利于提高Si和SiO2的刻蚀速率。等离子体刻蚀反应边缘刻蚀控制去PSG去磷硅玻璃模型什么是磷硅玻璃？磷硅玻璃的去除SiNx:H减反射膜SiNx:H简介PECVD=PlasmaEnhancedChemicalVaporDeposition即“等离子增强型化学气相沉积”，是一种化学气相沉积PECVD是借助微波使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜。安全事项丝网印刷与烧结电池片丝网印刷的三步骤背面电极及电场图示正面栅线图示丝网印刷原理烧结的目的烧结对电池片的影响Thankyou!