光寻址电位传感器新结构的研究的中期报告本研究旨在设计并实现一种新型光寻址电位传感器结构，以提高传感器的性能和可靠性。在中期研究中，我们完成了以下工作：1.设计传感器结构我们设计了一种新型的光寻址电位传感器结构，其中包括两部分：底部电极和顶部传感器结构。底部电极由金属材料制成，具有良好的电导率和耐腐蚀性。顶部传感器结构由光阻材料制成，具有较高的透光率和尺寸稳定性。2.制备传感器样品我们使用光刻和电子束蒸发技术制备了传感器的样品。在制备过程中，我们优化了光刻的曝光时间和开发时间，确保了传感器结构的精度和稳定性。3.测试传感器性能我们使用外部电压源和摄像机对传感器进行了测试。结果显示，传感器输出电信号与位移之间存在线性关系。此外，我们进行了不同温度和湿度下的测试，发现传感器的性能在较宽的温度和湿度范围内保持稳定。总之，我们成功设计并制备了一种新型光寻址电位传感器结构，并对其性能进行了测试。下一步工作是进一步优化传感器的性能和可靠性，并将其应用于实际工程中。