ZnO纳米结构和p型掺杂ZnO薄膜的制备及性能研究的开题报告介绍本文将介绍ZnO纳米结构和p型掺杂ZnO薄膜的制备及性能研究的开题报告。ZnO是一种广泛应用于光电学和半导体领域的材料，它具有独特的光学、电学、热学和机械性能。近年来，随着纳米材料的发展，ZnO纳米结构逐渐成为研究的热点之一。此外，p型掺杂ZnO薄膜的制备及性能研究对于实现ZnO半导体器件的全面应用具有重要意义。研究目的本文拟研究ZnO纳米结构和p型掺杂ZnO薄膜的制备及性能，并探究它们在光电学和半导体领域的应用。研究内容1.ZnO纳米结构的制备方法研究；2.ZnO纳米结构在光电学领域的应用研究；3.研究p型掺杂ZnO薄膜的制备方法；4.探究p型掺杂ZnO薄膜在半导体领域的应用。研究方法本文将采用前沿的制备方法，如化学还原法、溶胶-凝胶法、有机物热分解法、热氧化法等方法，来制备ZnO纳米结构和p型掺杂ZnO薄膜。同时，采用各种测试仪器，如场发射扫描电镜(FESEM)、透射电镜(TEM)、X射线晶体衍射(XRD)、紫外-可见吸收光谱(UV-Vis)、荧光光谱等，来测试样品所具有的物理化学性质和光电性能。预期成果本文预计获得以下成果：1.成功制备出具有不同形态和尺寸的ZnO纳米结构；2.研究ZnO纳米结构在光电学领域的应用，如太阳能电池、光电器件等；3.成功制备出p型掺杂ZnO薄膜；4.研究p型掺杂ZnO薄膜在半导体领域的应用，如发光二极管(LED)等。