YLF激光晶化多晶硅薄膜的研究的开题报告题目：YLF激光晶化多晶硅薄膜的研究摘要：随着集成电路技术的不断发展，对于高质量、低成本的晶体硅材料的需求量越来越大。其中，多晶硅就成为了一种比较理想的材料，具有较高的场效应管迁移率和光电转换效率。传统的多晶硅制备方法为热退火法，但该方法存在制备周期长、成本高、温度控制难度大等缺点。因此，采用激光晶化技术制备多晶硅具有更广阔的应用前景。本文提出采用YLF激光晶化技术制备多晶硅薄膜，通过对激光参数的优化实现对薄膜性质的控制，即薄膜结晶度、电学性能和光学性能等方面。其中，本文将重点探究以下几个方面：（1）激光参数的优化：探究最佳激光脉宽、功率密度和扫描速度等参数，以实现更高质量的多晶硅薄膜制备。（2）薄膜结晶度的研究：通过SEM、XRD等表征手段，研究多晶硅薄膜的结晶度与激光参数之间的关系，探索制备出高结晶度的多晶硅薄膜的条件。（3）电学性能的研究：采用四探针测试，研究制备出的多晶硅薄膜的电阻率、载流子浓度等电学性能。（4）光学性能的研究：采用激光光学探测技术，研究多晶硅薄膜的光学特性，如吸收系数和折射率等。通过对以上几个方面的研究，本文旨在实现制备高质量多晶硅薄膜的目标，并为其在光电子学、集成电路等领域的应用提供技术支持。关键词：激光晶化；多晶硅薄膜；薄膜结晶度；电学性能；光学性能。