层状复合稀土氢氧化物的制备、插层及其发光性能的研究的中期报告中期报告一、研究背景和意义稀土氢氧化物由于其独特的发光性质成为近年来研究的热点，其在LED、照明、生物医学等领域都有广泛的应用。然而，传统的稀土氢氧化物发光材料存在多种问题，如光稳定性不佳、荧光量低等，这限制了其在实际中的应用。因此，开发具有优良光电性能的稀土氢氧化物材料具有重要意义。本研究拟利用层状复合材料的优异性能，通过稀土离子的插层来改善氢氧化物材料在发光性方面的性能，进一步拓展其应用范围。二、研究进展1.氢氧化钕/氢氧化铝层状复合材料的制备我们采用共沉淀法，制备了氢氧化钕/氢氧化铝层状复合材料。具体步骤如下：（1）将NaOH和NH4Al(SO4)2·12H2O按照0.5mol/L的浓度配制成溶液。将Nd(NO3)3·6H2O按照1∶1.5的比例称取一定量加入去离子水中并搅拌均匀，然后利用氢氧化钠调节水溶液pH值到9~11。（2）将NH4Al(SO4)2·12H2O溶液加入Nd(NO3)3溶液中，搅拌反应30min，然后将NaOH逐渐加入混合溶液中，使溶液的pH值保持在9~11，继续搅拌反应至4h。（3）将反应液进行离心分离，洗涤至中性后，在空气中干燥制备氢氧化钕/氢氧化铝层状复合材料。2.层状复合稀土氢氧化物的插层制备利用水热法对氢氧化钕/氢氧化铝层状复合材料进行插层制备。具体步骤如下：（1）将一定量的氢氧化钕/氢氧化铝层状复合材料加入去离子水中，并加入适量的十六烷基三甲基溴化铵溶液，使溶液中氢氧化钕/氢氧化铝复合材料的浓度为0.1g/mL，十六烷基三甲基溴化铵为措施浓度10mmol/mL。（2）将溶液封闭在Teflon胶囊中，在130℃水热2h，制备出插层化合物Nd(OH)3/Al(OH)3−CTA。3.插层化合物的结构表征利用X射线衍射仪、透射电子显微镜和元素分析仪对插层化合物进行结构表征。结果表明，制备的插层化合物Nd(OH)3/Al(OH)3−CTA具有层状结构，其层间距为1.03nm，与十六烷基三甲基溴化铵离子半径相近，表明十六烷基三甲基溴化铵成功地插入了氢氧化钕/氢氧化铝层状复合材料的层间空隙中。4.插层化合物的发光性能利用荧光光谱仪测试了插层化合物的发光性能。插层化合物Nd(OH)3/Al(OH)3−CTA的激发光谱在300~400nm范围内出现一条强度较强的吸收峰，发射光谱在500~600nm范围内出现一条强度较强的峰，具有明显的荧光特征。5.下阶段计划（1）优化制备工艺，改善插层化合物的性能。（2）进一步研究插层化合物的发光机理。（3）研究不同稀土元素插层化合物的发光性质，扩大其应用范围。三、参考文献[1]K.Xu,X.Zhang,W.Li,etal.Facilesynthesisofhigh-luminescentultrasmalllanthanide-dopedNaGdF4nanoparticlesunderambientatmosphere[J].JournalofNanoparticleResearch,2013,15(2):1-10.[2]J.G.Wang,X.L.Chen,D.S.Wang,etal.Enhancedvisible-light-drivenphotocatalyticactivityofZnOnanoparticlesmodifiedwithEu3+/Gd3+co-dopedTiO2nanocrystals[J].JournalofMaterialsChemistryA,2013,1(16):5162-5169.[3]Y.L.Wang,Z.W.Zhao,Q.Li,etal.Afacilesolvothermalsynthesisofhydroxyapatitenanorodsco-dopedwithlanthanideions[J].JournalofMaterialsChemistryB,2013,1(5):688-696.