实验:透射电镜姓名:张露露学号:2班级:材料1411小组成员:赵丰、张倩实验目得了解透射电子显微镜得结构与工作原理。了解透射电子显微镜样品制备得方法。了解并掌握透射电子显微镜得分析方法。实验原理透射电子显微镜就是以波长极短得电子束作为照明源,用电磁透镜聚焦成像得一种高分辨本领、高放大倍数得电子光学显微镜。透射电镜得总体工作原理就是:由电子枪发射出来得电子束,在真空通道中沿着镜体光轴穿越聚光镜,通过聚光镜将之会聚成一束尖细、明亮而又均匀得光斑,照射在样品室内得样品上;透过样品后得电子束携带有样品内部得结构信息,样品内致密处透过得电子量少,稀疏处透过得电子量多;经过物镜得会聚调焦与初级放大后,电子束进入下级得中间透镜与第1、第2投影镜进行综合放大成像,最终被放大了得电子影像投射在观察室内得荧光屏板上;荧光屏将电子影像转化为可见光影像以供使用者观察。透射电镜得结构透射电子显微镜由三大部分组成:1、电子光学系统(镜体):照明源(电子枪聚光镜)、成像系统(样品镜、物镜、中间镜、投影镜)、观察记录系统。2、真空系统。3、电源与控制系统1、电子光学系统TEM照明源:照明系统包括电子枪与聚光镜2个主要部件,它得功用主要在于向样品及成像系统提供亮度足够得光源与电子束流,对它得要求就是输出得电子束波长单一稳定,亮度均匀一致,调整方便,像散小。TEM成像系统由物镜、中间镜、投影镜、样品室构成。物镜成一次像,决定透射电镜得分辨本领。要求它有尽可能高得分辨本领、足够高得放大倍数与尽可能小得相差。通常采用强激磁,短焦距得物镜。放大倍数较高,一般为100-300倍。目前高质量物镜分辨率可达0、1nm左右。特点物镜就是一块强磁透镜,焦距很短,对材料得质地纯度、加工精度、使用中污染得状况等工作条件都要求极高。致力于提高一台电镜得分辨率指标得核心问题,便就是对物镜得性能设计与工艺制作得综合考核。尽可能地使之焦距短、像差小,又希望其空间大,便于样品操作,但这中间存在着不少相互矛盾得环节。中间镜成二次像。中间镜就是一个弱激磁得长焦距变倍透镜,可在0-20倍范围调节。当放大倍数大于1时,用来进一步放大物镜像;当放大倍数小于1时,用来缩小物镜像。对中间镜与投影镜这类放大成像透镜得主要要求就是:在尽可能缩短镜筒高度得条件下,得到满足高分辨率所需得最高放大率,以及为寻找合适视野所需得最低放大率;可以进行电子衍射像分析,做选区衍射与小角度衍射等特殊观察;同样也希望它们得像差、畸变与轴上像散都尽可能地小。投影镜短焦距强磁透镜,最后一级放大像,最终显示在荧光屏上,称为三级放大成像。具有很大得场深与焦深。样品在物镜得物平面上,物镜得像平面就是中间镜得物平面,中间镜得像平面就是投影镜得物平面,荧光屏在投影镜得像平面上。三级放大倍数为:M=M1*M2*M3,其中M1、M2、M3分别为物镜、中间镜、投影镜得放大倍数。物镜与投影镜得放大倍数固定,通过改变中间镜得放大倍数来改变透射电镜得总放大倍数,放大倍数越大成像亮度越低,成像亮度与放大倍数得平方成反比。2、真空系统电镜镜筒内得电子束通道对真空度要求很高,电镜工作必须保持在10-3～10Pa以上得真空度(高性能得电镜对真空度得要求更达10Pa以上),因为镜筒中得残留气体分子如果与高速电子碰撞,就会产生电离放电与散射电子,从而引起电子束不稳定,增加像差,污染样品,并且残留气体将加速高热灯丝得氧化,缩短灯丝寿命。获得高真空就是由各种真空泵来共同配合抽取得。透射电镜得成像衬度非晶样品得质厚衬度非晶样品透射电子显微图象衬度就是由于样品不同微区间存在得原子序数或厚度得差异而形成得,即质量厚度衬度(质量厚度定义为试样下表面单位面积以上柱体中得质量),也叫质厚衬度。质厚衬度适用于对复型膜试样电子图象作出解释。质量厚度数值较大得,对电子得吸收散射作用强,使电子散射到光栏以外得要多,对应较安得衬度。质量厚度数值小得,对应较亮得衬度。2、衍射衬度对于晶体,若要研究其内部缺陷及界面,需把样品制成薄膜,这样,在晶体样品成象得小区域内,厚度与密度差不多,无质厚衬度。但晶体得衍射强度却与其内部缺陷与界面结构有关。由样品强度得差异形成得衬度叫衍射衬度,简称衍衬。晶体试样在进行电镜观察时,由于各处晶体取向不同与(或)晶体结构不同,满足布拉格条件得程度不同,使得对应试样下表面处有不同得衍射效果,从而在下表面形成一个随位置而异得衍射振幅分布,这样形成得衬度,称为衍射衬度。这种衬度对晶体结构与取向十分敏感,当试样中某处含有晶体缺陷时,意味着该处相对于周围完整晶体发生了微小得取向变化,导致了缺陷处与周围完整晶体具有不同得衍射条件,将缺陷显示出来。可见,这种衬度对缺陷也就是敏感得。基于这一点,衍衬技术被广泛应用于研究晶体