印制电路板的乳化清洗工艺介绍与未来发展趋势.pdf
上传人:sy****28 上传时间:2024-09-13 格式:PDF 页数:3 大小:331KB 金币:14 举报 版权申诉
预览加载中,请您耐心等待几秒...

印制电路板的乳化清洗工艺介绍与未来发展趋势.pdf

印制电路板的乳化清洗工艺介绍与未来发展趋势.pdf

预览

在线预览结束,喜欢就下载吧,查找使用更方便

14 金币

下载此文档

如果您无法下载资料,请参考说明:

1、部分资料下载需要金币,请确保您的账户上有足够的金币

2、已购买过的文档,再次下载不重复扣费

3、资料包下载后请先用软件解压,在使用对应软件打开

万方数据第卷,第期国防科技大学学报337科技与创新2011年2月文章编号:1671-88911(2011)22-2297-51金属清洗增效剂脂肪酸甲酯乙氧基化物及其磺酸盐孔凡杰中国人民解放军装备再制造研究中心北京100072金属清洗、钢铁除油脱脂等硬表面清洗,都年汉高公开的金属清洗剂相关专利Nr402007会用到大量的表面活性剂,这些表面活性剂主要091330.5,汉高公司使用脂肪酸甲酯乙氧基是壬基酚或脂肪醇聚氧乙烯醚系列,如陶氏的NP化物磺酸盐FMES代替了其它阴离子产品,从系列、巴斯夫的TO系列、沙索AEO等产品。也会而解决了清洗时间慢、低温效果差、油污容易用到一些阴离子产品,如十二烷基苯磺酸钠LAS、反沾污等一系列问题。醇醚硫酸钠AES等。3M新材料公司于2008年正式宣布,全新以上这些表面活性剂都具有较好的乳化除油的Novec系列工业清洗剂正式推向市场,该系等性能,但是分散性能普遍较差。国内的金属清列的产品使用了大量的脂肪酸甲酯乙氧基化洗剂往往都是由以上表面活性剂复配而得,因此物FMEE,从而使常温下也可获得极佳的净洗效普遍存在的问题就是泡沫太高,分散性能差,油果。污容易反沾污在金属表面,并且除油脱脂速度慢,FMEE类的表面活性剂,凭借其强大的分低温条件下清洗效果更差。脂肪酸甲酯乙氧基化散净洗能力、较低的泡沫性能,已经在纺织前物FMEE及其磺酸盐FMES凭借其低泡沫与强大的处理、纸浆脱墨等领域得到了广泛应用;在工分散和防沾污能力,弥补了常规表面活性剂这一业清洗领域,利用FMEE或FMES代替部分常规缺陷。表面活性剂,降低原料成本,提高净洗效果,国外的金属清洗剂,如汉高的产品,则具有减少净洗时间,悄然成为工业清洗的必然的选良好的防止油污反沾污的性能,清洗效率高、清择。洗速度更快,常温亦有较好的清洗效果。根据2007孔凡杰:男,北京人,长期从事各种国防设备的清洗和养护工作。联系方式:kongfanjie1967@163.com。万方数据