SiNO薄膜的制备及性能研究的任务书任务书任务名称：SiNO薄膜的制备及性能研究任务背景：随着微电子工业的不断发展，对于新型材料的需求也越来越大。具有高介电常数、低比热容和良好的化学稳定性的氮化硅（Si3N4）薄膜由于其特殊的性质被广泛应用于金属氧化物半导体场效应晶体管（MOSFET）、隧穿二极管和动态随机存取存储器（DRAM）的电极绝缘层等领域。但是，Si3N4薄膜在较高频率下会出现损耗以及介电常数过大等问题，因此，一种新型的氮硅氧（SiNO）薄膜材料的应用也逐渐受到了关注。任务要求：1.综述SiNO薄膜的制备方法及其表征技术；2.采用某一种制备方法，制备SiNO薄膜，并进行表征；3.测试薄膜的介电常数、热稳定性等性能指标，并与Si3N4薄膜进行对比分析；4.通过实验，探究不同制备条件对薄膜性能的影响，并优化制备工艺；5.根据实验结果，提出对未来SiNO薄膜研究的展望。任务拟定人：XXX执行任务的人员：XXX任务起止时间：XXX至XXX任务经费：XXX元