FeCo薄膜的微结构和磁特性研究的中期报告这篇中期报告将介绍FeCo薄膜的微结构和磁特性的研究情况。FeCo合金具有优良的磁特性，被广泛应用于磁性存储和磁性传感器等领域。本次研究的目的是通过制备不同厚度的FeCo薄膜并对其进行微观结构和磁性质的研究，探究薄膜厚度对其磁性能的影响。具体方法是采用磁控溅射技术，在Si基片上制备FeCo薄膜。制备的薄膜厚度分别为10nm、20nm、30nm和40nm。首先，利用X射线衍射仪对所制备的FeCo薄膜进行结构分析。结果表明，所有样品均为fcc结构，与单晶的FeCo的结构一致。薄膜的微观结构随着厚度的变化并没有发生明显的变化。接下来，使用磁力显微镜对薄膜的磁性能进行研究。图示测量表明，薄膜的磁化强度随着厚度的增加逐渐增大。同时，薄膜的磁畴结构也发生了变化。在较厚的样品中，出现了多个大小不同的磁畴，而较薄的样品则呈现出更明显的单个磁畴结构。进一步使用霍尔效应测量仪研究了薄膜的磁性能随着外加磁场的变化情况。结果表明，样品的饱和磁化强度随着厚度的增加而增强，但同样厚度的不同样品之间的差异较小。综上所述，本次研究的结果证明了FeCo薄膜的微观结构和磁性能随着厚度变化的规律。其中，薄膜的磁畴结构和磁化强度的变化与其厚度密切相关。这对于进一步优化FeCo薄膜的磁性能具有重要指导意义。