Ni-P-B箔的制备及其纳米化的研究的中期报告根据本次研究计划，我们采用物理气相沉积法（PVD）从高纯度的镍、磷、硼三种金属原料中制备出Ni-P-B箔。该方法可以控制沉积速率和成分的精度，对所得产品的表面质量和成分控制具有重要意义，因此我们选择该方法作为本次研究的主要制备方法。在不同的制备条件和成分配比下，我们制备了多种Ni-P-B箔样品。利用扫描电子显微镜（SEM）、透射电子显微镜（TEM）和X射线衍射（XRD）等分析手段对样品进行了表征和分析。经过初步的分析，我们发现Ni-P-B箔的成分可以在一定程度上影响其物理和化学性质，同时也对其纳米化加工的难度产生重要影响。在后续的研究中，我们将选择性地对不同配比的Ni-P-B箔进行纳米化处理，并结合各种表征手段，深入研究Ni-P-B箔的材料特性和纳米化加工原理，寻求新的应用机会。总的来说，本次研究初步验证了Ni-P-B箔的制备可行性，并取得了一些重要的实验结果，为后续的工作奠定了基础。我们将继续深入研究Ni-P-B箔的物理和化学性质，探索其在纳米化加工和应用方面的潜力。