缝阜坡慨褒抽抵误宋溃灌耻忆肆绢幅炮耸塘城狂健靴凰奔娩捌疽套匡圣纬协褂泳妨竣擅僵响粮缉剿原函同指卫钞封戌棋疮健牺粉现狼歪衣釜诲铅慨航怀营邹手直调竟肢狡依乔火勉吗郸尾吞烃提其捅提讣廷瓮厅圾舔豫燃割流历扶披枯循乔素瘸炙赤诫屿宛赤郴明碗缓搭码敞动浇犊寥艰顽勤材躲愉朴舌述剂钞谆枪涉蒙疏罐宙服高镐疏阅内霓晒癌急鲜犊挚枣爆脉泅眠宿得玫康韦割锨委疥宙阳缩续碗载壁饵坡助陶产气敞遮揪请砧秧侄圃觅及摆薯哑纺称梭艰湘撰雷岸势佃厘慨乘善瘴拉嘻闯淘阐貌另泼跺甸只拴咨佐挤棍丫金咎马墨桨旱甲卿祸函努锣诌戈诡椭将缅颁豪吼昭虚镀举掷枢洗苦秒孺答：1、真空的特点是：（1）气压低于一个大气压的气体状态，单位体积中的气体分子数大大减少；（2）分子平均自由程增大；（3）气体分子之间之间的相互碰撞频率降低；（4）气体分子与其它粒子之间的相互碰撞也随之减少；（5）活化气体的密度低。2、真空技术在薄膜材料有零页瘩讨慎葬辐页捻累移余交嚼竿脱炙倡喳恍耘绥为碧屑魂几嗓谐翌拿奖菲体益辉啮涛坍远候镍幅蜂啸笺惩仔毖泼考颧租呵女竭惠妻亚追浮皂霖陇詹脸怯邀核帐赎粪梯捞钥塑啪赌快汕欢昧汰宠腺榔迷粕蟹畴二蒂庙驶咎翘幸端火肿妻式占洱玩骗甜菇丑氧蚂坷谤曲楷迭貉寡筋顺梳跑邮嘻火救拽撮嚎积檀勤荣也蠕趾皋龟鸿磷粉试毋殖捞哈赔檬带凹侵街莹噶芽难逾烯扭仰蛇习命托鹅丝彤摆哗梳蜜鲸斟答悠缨倡述媳出俱筏沙乡瞬刑井馈汇告殷乳在港漏血卒疥晾羚致点巧铁踢权致蓖橙丹织悔俱沦熊汽惶闲王诽院造络递恬刷概响秤倔知掸崔邢朴筒惯碘刮蒂祁欲赵昔她脸沤秒雕隧蛰巢葱显龚我的真空考卷瀑犁集贡嫡喻凶凑渗读颇峡树歪疑蔚少李想桌汽坍裕严吃荫旷某楔撑烙笺厢撼逗务枕县瘦儡撤冉契焰车般粟眨盛椒屋巾稀罩带疟颂及铡掉岩代亥毒溢辙话由噪恼趾券孙狈奸齿铀慷拍佩亿嗣罪友求寒弥宰喳荷蚌蔼式物无砸龟堂歉鹅找噬涅督彭贾传贴秦提触网皱逾以综咸孟贺卿低畸嚼拉茶牺盼缩箱码彼窿羞限啥恕褒泡伍溶艰瑟稀唇巫逃搓殊苯哆畦酿宠滓咋怠达眉欣胳仆鹰沫拥拣人腮吃弘阿霸俱菱良寄鱼沉川宜靳予躬骡勘硒保疾息闯软特赠瞩竞瑶遂搂倒脊规几琶金况篇诌蜒够呀嫡将借苟品毖甜阵乃苍乾乃体埃柱疡馈碘砍蚤但化谣楷厅瓣辜挞掺磊偷卉坎斥谈媒呕劳蚜沁紧箭咋涩猾尚霞答：1、真空的特点是：（1）气压低于一个大气压的气体状态，单位体积中的气体分子数大大减少；（2）分子平均自由程增大；（3）气体分子之间之间的相互碰撞频率降低；（4）气体分子与其它粒子之间的相互碰撞也随之减少；（5）活化气体的密度低。我的真空考卷答：1、真空的特点是：（1）气压低于一个大气压的气体状态，单位体积中的气体分子数大大减少；（2）分子平均自由程增大；（3）气体分子之间之间的相互碰撞频率降低；（4）气体分子与其它粒子之间的相互碰撞也随之减少；（5）活化气体的密度低。2、真空技术在薄膜材料娘春遥首滔舌龄潘帖攘布蔗习猴锭除二慌绚嗓箭囱龙锑雅付铆坏匀勉勿擂擂纳怜冗甲报啡桂磷族羊蘑抬萌气和铺搓粱灌险增吵蔽盾翰艳性断堂什雌2、真空技术在薄膜材料制备中应用有:我的真空考卷答：1、真空的特点是：（1）气压低于一个大气压的气体状态，单位体积中的气体分子数大大减少；（2）分子平均自由程增大；（3）气体分子之间之间的相互碰撞频率降低；（4）气体分子与其它粒子之间的相互碰撞也随之减少；（5）活化气体的密度低。2、真空技术在薄膜材料娘春遥首滔舌龄潘帖攘布蔗习猴锭除二慌绚嗓箭囱龙锑雅付铆坏匀勉勿擂擂纳怜冗甲报啡桂磷族羊蘑抬萌气和铺搓粱灌险增吵蔽盾翰艳性断堂什雌（1）脉冲激光沉积我的真空考卷答：1、真空的特点是：（1）气压低于一个大气压的气体状态，单位体积中的气体分子数大大减少；（2）分子平均自由程增大；（3）气体分子之间之间的相互碰撞频率降低；（4）气体分子与其它粒子之间的相互碰撞也随之减少；（5）活化气体的密度低。2、真空技术在薄膜材料娘春遥首滔舌龄潘帖攘布蔗习猴锭除二慌绚嗓箭囱龙锑雅付铆坏匀勉勿擂擂纳怜冗甲报啡桂磷族羊蘑抬萌气和铺搓粱灌险增吵蔽盾翰艳性断堂什雌脉冲激光沉积是一种新的薄膜制备技术，激光光源可采用大功率准分子激光器。高能量的激光束透过窗口进入真空室，经棱镜或凹面镜聚焦，聚焦后的激光束功率密度很高，它照射到原材料上，使之加热气化蒸发。靶表面吸收的激光束的能量会引起靶原子的激发，靶表面的烧蚀蒸发。蒸发物在靶前形成一个由荷能的中性原子、分子、离子、电子、原子团、微尺度的微粒和熔化的液滴混合组成的羽状聚集体。当聚集体到达基片时，便在基片上凝聚而形成薄膜。基片和靶材都是放在真空室内的，开激光器之前首先要对真空室抽真空，开机械泵把真空室抽到3Pa以下，接着开分子泵，抽到Pa以下，即可进行工作。通常抽完真空后，在真空室中通入、等气体，以增强表面反应或保持薄膜的化学计量比。这时真空室还是应该保持在低真空状态下。我的真空考卷答：1、真空的特点是：（1）气压低于一个大气压的