光学微腔的本征模式分析的中期报告本次中期报告主要介绍了光学微腔的本征模式分析的研究进展。光学微腔是一种能够将光子纳米尺度限制在其内部的结构，具有很多尺寸数量级迥异的实际应用，例如光通信、量子信息处理、生物传感等。本征模式是指光学微腔内在固有的电磁波场分布形式，是研究光学微腔内物理过程的重要基础。本征模式分析的主要思想是利用数学模型计算描述光学微腔中电磁波的物理量，例如电场分布、相位、频率和减衰等。最终得到光学微腔的本征模式的数量和质量因子等参数。本文介绍了一种将光学微腔的材料折射率分布数值计算、本征模式求解及其物理模拟的计算方法。这种方法利用有限元计算和柿子卷积（TMM）算法对光学微腔的表面和内部的分布场进行计算和分析。同时，也介绍了一些重要的本征模式量化测量方法，例如腔蹄宽度、透射谱等等。通过计算分析和实验对比，已经成功地预测并测量了多种光学微腔的本征模式，包括二维光子晶体腔（PC）和三维球形微腔等。其中，针对具有上千种模式的光子晶体腔，我们开发了自动分类方法，成功地将这些本征模式划分成主要几类。尽管有很多具有挑战性的问题，例如光学微腔原位测量和复杂微腔结构的模式分析等，我们仍然相信，本征模式分析将无疑为光学微腔的研究带来更多的成果和应用。