钨青铜纳米材料薄膜的制备和电致变色功能研究的开题报告1.研究背景随着现代科技的发展，人们对于材料的研究日益深入。纳米技术成为了当今材料领域发展的重要方向之一。其中，纳米材料薄膜因其很多优异性能逐渐成为了研究的热点。钨青铜是一种具有电致变色功能的材料，具有广泛的应用前景。然而，其常规制备方法存在着成本高、生产周期长、工艺复杂等不足。因此，研究一种快速、低成本、简便的钨青铜纳米材料薄膜制备方法变得十分必要。2.研究目的本研究旨在探究一种钨青铜纳米材料薄膜的制备方法，并研究其电致变色功能。具体的目标如下：（1）制备一种高质量的钨青铜纳米材料薄膜；（2）研究钨青铜纳米材料薄膜的结构、形貌、光学特性等性质；（3）研究钨青铜纳米材料薄膜在外界电场作用下的电致变色特性。3.研究方法（1）沉积方法：采用射频磁控溅射法制备钨青铜纳米材料薄膜。（2）表征方法：采用扫描电镜（SEM）、透射电镜（TEM）、X射线衍射（XRD）等表征手段对制备的钨青铜纳米材料薄膜进行结构、形貌、晶型等方面的分析。（3）电致变色测试：使用电学测试系统对钨青铜纳米材料薄膜在外界不同电场下的电致变色特性进行测试。4.研究意义为了解决现有结构复杂、制备成本高、生产周期长的问题，本研究提出了一种简单、快速、低成本的钨青铜纳米材料薄膜制备方法，并在此基础上对其电致变色功能进行了研究。这样有助于推动钨青铜材料的产业化发展。另外，研究结果还为相关领域的研究提供了有益的参考。