NiOx薄膜的制备和电致变色性能研究的中期报告本研究以射频磁控溅射法（RFsputtering）制备了NiOx薄膜，并研究了其电致变色性能。本次报告主要介绍了样品制备过程和初步的实验结果。1.样品制备首先，在具有抗反射涂层的玻璃基板上沉积了一层氧化钼（MoOx）作为电极，并将其加热至250℃，以减少内部应力。随后，在MoOx电极上通过RFsputtering沉积了NiOx薄膜，获得了不同厚度（20nm，50nm和100nm）的样品。最后，通过热蒸发沉积了一层高透过率的氧化钼（MoOx）作为光栅。2.实验结果在可见光范围内，20nm和50nm厚度的NiOx薄膜呈现出透明的特性，100nm厚度的薄膜呈现出略微的灰色色调。在紫外-可见光区域（UV-VIS）的透射率谱分析中，20nm和50nm厚度的NiOx薄膜呈现出高透明度和低反射的特性，同时在可见光区域中呈现出基本不变的透射率。而100nm厚度的NiOx薄膜在紫外-可见光区域有更高的吸收率，但在可见光区域的透射率相对较低。通过在不同电压下对NiOx薄膜进行测试，发现在电压为0V时，薄膜的透射率接近100%。而当电压达到4V时，20nm厚度的薄膜透射率降低到了约45%，50nm和100nm厚度的薄膜分别降低到了约60%和70%。3.结论本次实验成功制备了不同厚度的NiOx薄膜，并表征了其在可见光和紫外-可见光区域的透射率和吸收率。通过实验发现，不同厚度的NiOx薄膜在电场作用下都有相似的电致变色特性。进一步研究将对于深入理解NiOx薄膜的电致变色机制和实现其在智能玻璃等领域的实际应用具有重要意义。