AZ31镁合金表面磁控测射SiN薄膜及其性能研究的中期报告该研究的中期报告主要介绍了对AZ31镁合金表面磁控测射SiN薄膜进行性能研究的初步结果。研究使用了磁控溅射技术在AZ31镁合金表面制备了SiN薄膜，并对其进行表征和性能测试。以下是该研究的主要内容和初步结果：1.实验方案本研究首先对AZ31镁合金表面进行了机械研磨和酸洗处理，然后采用磁控溅射技术在表面沉积了不同厚度的SiN薄膜。制备过程中，使用了不同的工艺参数，如气压、溅射功率和沉积时间等。制备完成后，对薄膜进行了表征和性能测试，包括表面形貌、结构成分、电学性能和耐腐蚀性能等。2.表征结果通过扫描电子显微镜（SEM）和原子力显微镜（AFM）观察，发现制备的SiN薄膜表面均匀光滑，无明显缺陷和颗粒。X射线衍射（XRD）结果表明薄膜是非晶态结构，与晶态SiN相比具有更好的性能。3.性能测试结果将样品放置在恒温恒湿箱内，通过电学测试，发现SiN薄膜具有较好的绝缘性能和耐电导性，适用于电子元件表面保护。在耐腐蚀性测试方面，测得薄膜在5%盐酸溶液和5%氯化钠溶液中表现出较好的耐腐蚀性能，可用于海洋工程等特殊环境下。4.讨论和展望通过初步的研究结果，可以得出SiN薄膜在AZ31镁合金表面具有良好的绝缘性、电学性和耐蚀性等优良性能，可应用于电子、光学、生物医学等领域中。未来需要进一步研究SiN薄膜的制备工艺和性能优化，以满足不同领域的特殊需求。