Co基全金直落膜的结构与磁性的中期报告本中期报告主要介绍Co基全金直落膜的结构与磁性方面的研究进展。首先介绍了全金直落膜的制备方法，即通过物理气相沉积法（PVD）在单晶体衬底上制备Co基全金直落膜。通过优化实验参数，如沉积速率、温度和沉积时间等，获得了高质量的Co基全金直落膜。接着介绍了Co基全金直落膜的结构表征结果。利用X射线衍射（XRD）和透射电子显微镜（TEM）等技术，发现Co基全金直落膜具有良好的晶体结构和结晶度，且具有具有极高的(001)择优取向性。此外，原子力显微镜（AFM）观察到了平整的表面形貌和均匀的膜厚。最后介绍了Co基全金直落膜的磁性测量结果。采用霍尔测量和振动样品磁强计（VSM）等技术，发现Co基全金直落膜具有较高的矫顽力和饱和磁化强度，且具有显著的磁各向异性。通过对磁性测量结果的分析，可以推测Co基全金直落膜在应用于磁存储器等领域具有潜在的应用价值。综上所述，Co基全金直落膜具有良好的晶体结构和平整的表面形貌，且具有显著的磁性。通过对其结构与磁性方面的研究，为其在磁存储器等领域的应用奠定了基础。