Ti缓冲层对ZnO薄膜应力和光学性能的影响的任务书任务：研究Ti缓冲层对ZnO薄膜应力和光学性能的影响。要求：1.系统搜集相关文献，了解Ti缓冲层的作用机理、制备方法及其对ZnO薄膜性能的影响。2.设计实验方案，制备不同厚度的Ti缓冲层和ZnO薄膜样品，分别进行表征和测试。3.使用X射线衍射仪、原子力显微镜等表征手段，对样品的结晶度、表面形貌和厚度进行表征。4.使用激光扫描显微镜、紫外可见分光光度计等测试手段，对样品的透过率、光学带隙等性质进行测试。5.结合实验结果分析，探讨Ti缓冲层对ZnO薄膜应力和光学性能的影响机理。6.撰写实验报告，包括实验原理、方法、结果、分析和结论等内容。建议参考文献：1.K.Xuetal.,“EffectofTibufferlayerthicknessonZnOthinfilmsgrownbyion-assisteddeposition,”SurfaceandCoatingsTechnology,vol.240,pp.168-172,2014.2.W.C.Hsuetal.,“EffectsofannealingtemperatureandTibufferlayerthicknessonthestructuralandopticalpropertiesofZnOthinfilmsgrownbysputtering,”MaterialsScienceinSemiconductorProcessing,vol.21,pp.63-69,2014.3.J.H.Kimetal.,“EffectofbufferlayerthicknessonZnOthinfilmgrowthbyatomiclayerdeposition,”KoreanJournalofChemicalEngineering,vol.35,pp.521-526,2018.