喷射成形60Si40Al电子封装材料的钎焊性能研究.pdf
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焊接·切割(6)Welding●焊接技术●喷射成形60Si40Al电子封装材料的钎焊性能研究白晓婧,杨滨,王子涵,孙淼(北京科技大学新金属材料国家重点实验室,北京100083)摘要:喷射成形Si-Al(wSi=50%~70%)合金因其低的热膨胀系数、高的热导率和低的密度而成为一类新型的电子封装材料。但研究中发现,Si-Al合金的钎焊性能很差。本文采用在Si-Al合金基体上化学浸锌预处理后再行电镀镍镀层的方法,有效地改善了Si-Al合金的钎焊性能。关键词:喷射成形;60Si40Al;电子封装材料;电镀;钎焊中图分类号:TG454文献标识码:A文章编号:1001-3814(2007)01-0008-02BrazingPerformanceofSpray-deposited60Si40AlMaterialsforElectronicPackagingBAIXiao-jing,YANGBin,WANGZi-han,SUNMiao(StateKeyLab.forAdvancedMetalsandMaterials,UniversityofSci.&Tech.Beijing,Beijing100083,China)Abstract:Thespray-depositedSi-Al(50~70Si,wt%)alloysareoneofthenovelelectronicpackagingmaterialsduetotheirlowerthermalexpansioncoefficients,highheatconductivityandlowerdensity.ThebrazingperformanceofSi-Alalloyswasfoundtobeverypoor.AnewmethodtoprepareNicoatingontheSi-Alalloyswasproposed.Thewettabilityandbrazingperformanceofspray-depositedSi-AlalloyswithNicoatingonthesurfaceofthealloyswereimprovedeffectively.Keywords:sprayforming;60Si40Al;electronicpackagingmaterials;electricplating;brazewelding采用喷射沉积成形方法制备的Si-Al(wSi=50%化学浸锌预处理后再行电镀Ni镀层的方法,有效~70%)电子封装材料,因其组织均匀、Si相颗粒细地改善了Si-Al合金的钎焊性能。[1~4][5]小,具有低的热膨胀系数和密度,高的热导率1试验方法和刚度,以及良好的热机械稳定性,使之在航空航天电子封装领域有着广阔的应用前景。然而,研究1.1化学预处理和电镀中发现,Si-Al系合金中由于大量硅的存在,使其化学预处理和电镀的工艺流程为:机械抛光与焊料(如Sn-3.0Ag-0.5Cu)的润湿性很差,与对!除油!水洗!碱蚀!水洗!浸锌!退锌!水洗焊材料(如Cu等)的焊接性不良。通常,在电子封!电镀。电镀时以喷射成形60Si40Al合金为阴极装行业中对基板材料进行电镀是为了改善其与半材料,工业纯Ni板为阳极材料,使用的仪器设备导体元器件之间的焊接性能以便提高其电导率和有:pH计、恒温加热磁力搅拌器、镀槽、脉冲电源便于引线键合[6]。由于Si-Al合金中的Al与Si之等。碱蚀液配方及工艺参数如表1所示。化学浸锌预处理溶液配方及工艺参数如表2所示。间不形成化合物,合金表面的Al易与O2反应生表1碱蚀液配方及工艺参数成Al2O3,因此正式电镀前需进行化学预处理以去溶液配方温度/℃时间/s除其表面的AlO膜。考虑到Al的电极电位很23NaOH50~100g/L,NaPO·12HO30~50g/L,34260~805~10低,电镀过程中易与许多金属离子发生置换反应,Na2CO320~30g/L,NaF30~50g/L置换后的产物还应容易除去,以活化Si-Al合金表2浸锌液配方及工艺参数的表面状态,因此,本文选择在Si-Al合金基体上溶液配方温度/℃时间/sNaOH140g/L,ZnO14~20g/L,第一次40~70NiCl1.5g/L,乳酸75g/L,20~252第二次20~50收稿日期:2007-09-05NaNO32g/L,HF5ml/L基金项目:北京市科委国际合作项目(20061003650)、北京市教委产学研合作项目(20051003651)和教育部博士学科点专1.2焊接项科研基金资助项目(20050008016)选择铜板为对焊材料,焊前表面打磨,使其平