最全的各种薄膜制备学习教案.pptx
上传人:王子****青蛙 上传时间:2024-09-13 格式:PPTX 页数:46 大小:3.5MB 金币:10 举报 版权申诉
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会计学种类(zhǒnglèi):(1)以材料种类(zhǒnglèi)划分:金属、合金、陶瓷、半导体、化合物、高分子薄膜等。(2)以晶体结构划分:单晶、多晶、纳米晶、非晶(3)以厚度划分:纳米薄膜,微米薄膜和厚膜。(4)以薄膜组成结构划分:多层薄膜,梯度薄膜,复合薄膜。应用:光学薄膜、微电子薄膜、光电子学薄膜、集成电路薄膜、防护功能薄膜。薄膜的制备(zhìbèi)方法12.2蒸发(zhēngfā)镀膜1、蒸发镀膜的装置(zhuāngzhì)与过程/2、真空度3、蒸发(zhēngfā)温度二、蒸发(zhēngfā)源和蒸发(zhēngfā)方式/2、电子束蒸发(zhēngfā)源3、激光(jīguāng)蒸发源三、合金(héjīn)与化合物的蒸镀2、化合物蒸镀四、蒸镀特点(tèdiǎn)与用途12.3溅射(jiànshè)镀膜一、溅射(jiànshè)镀膜的原理溅射(jiànshè)原理:溅射(jiànshè)完全是动能的交换过程,是发生了级联碰撞的结果。2、溅射(jiànshè)速率和溅射(jiànshè)能量二、气体(qìtǐ)的辉光放电示意图三、溅射镀膜的工艺(gōngyì)方法2、射频溅射镀膜3、三极(sānjí)溅射与磁控溅射磁控溅射原理图/4、合金(héjīn)溅射和反应溅射四、溅射(jiànshè)镀膜的生长特点五、溅射(jiànshè)的用途TiN,TiC等超硬镀层(dùcénɡ)在高温、超高真空、射线辐照等特殊条件下工作(gōngzuò)的机械部件不能用润滑油,只有用软金属或层状物质等固体润滑剂。常用的固体润滑剂有软金属(Au,Ag,Pb,Sn等),层状物质(MoS2,WS2,石墨,CaF2,云母等),高分子材料(尼龙、聚四氟乙烯等)等。其中溅射法制取MoS2膜及聚四氟乙烯膜十分有效。12.4离子(lízǐ)镀膜一、离子镀膜的原理(yuánlǐ)和装置2.离子镀的类型(lèixíng)和特点二、离子镀膜层的特点(tèdiǎn)1、离子轰击对基片和膜/基界面的作用2、离子轰击对薄膜生长的作用3、绕射性3.离子镀的应用(yìngyòng)/12.5化学(huàxué)气相沉积(CVD)热分解反应(fǎnyìng)CVD的化学反应(fǎnyìng)温度一般在800-1200℃,较高的反应(fǎnyìng)温度限制了基片材料的选择,并给薄膜和薄膜基片复合体结构和性能带来不利的影响,如基体材料的相变及由高温冷却到室温时产生的热应力等。为降低CVD的温度,开发出一些新型CVD技术。如等离子体辅助化学气相沉积(PACVD)、电子束辅助化学气相沉积(EACVD)、激光束化学气相沉积(LACVD)和金属有机化合物化学气相沉积(MOCVD)等。等离子辅助化学(huàxué)气相沉积(PACVD)电子束辅助化学(huàxué)气相沉积(EACVD)和激光束化学(huàxué)气相沉积(LACVD)金属有机(yǒujī)化合物化学气相沉积(MOCVD)PVD和CVD两种工艺(gōngyì)的对比PVD和CVD两种工艺(gōngyì)的对比PVD和CVD两种工艺(gōngyì)的对比