AlN薄膜腔声谐振器的制备研究的中期报告本次制备的AlN薄膜腔声谐振器，使用的制备方式是光刻工艺，结合金属蒸发技术。制作过程如下：1.原材料准备：使用有机陶瓷薄膜涂布在硅基片上，然后在预热箱中烘烤。2.光阻涂覆：在AlN薄膜表面涂覆光刻胶，并使用旋转器均匀涂散光刻胶。3.可见光透镜版制作：将设计的图案以3000dpi的分辨率打印到透明基材表面，制作可见光透镜版。4.接触式光刻：通过接触可见光透镜版，将光刻胶处于图案区域暴露在紫外线下。然后在显影液中加热显影，暴露出需要的AlN图案。5.AlN蒸发：以阻挡物做掩膜，对设计好的AlN薄膜图案区域进行金属蒸发。掩膜去除后，便得到了AlN薄膜腔声谐振器。制备完后，对其表面进行了形貌和元素分析。结果表明，制备出的AlN薄膜腔声谐振器具有较高的表面光滑度和一定程度的元素纯度。随后，将试制声谐振器进行了发射和接收信号的测试。结果表明声谐振器具有一定的腔体谐振频率，并且能够较精确地接收信号。尽管还需要进一步完善制备工艺和增加样品数目，但测试结果表明，声谐振器的制备是可能实现并具有应用前景的。