会计学Chemicalvapordeposition,CVDChemicalvapordeposition,CVDChemicalvapordeposition,CVDChemicalvapordeposition,CVDChemicalvapordeposition,CVDChemicalvapordeposition,CVD等离子体增强CVD（PECVD，PlasmaEnhancedCVD）：在低压化学气相沉积(chénjī)过程进行的同时，利用辉光、电弧、射频、微波等手段促使反应气体放电产生等离子体，从而对反应沉积(chénjī)过程施加影响的CVD技术。基本特征：■应用等离子体的CVD方法；■采用低温等离子体（当地温度、电子温度）；■沉积(chénjī)时，基片温度很低；■薄膜性能比其它CVD方法更佳。等离子体增强CVD（PECVD，PlasmaEnhancedCVD）：PECVD沉积薄膜的主要(zhǔyào)微观过程：等离子体(děnglízǐtǐ)增强CVD（PECVD，PlasmaEnhancedCVD）：等离子体(děnglízǐtǐ)增强CVD（PECVD，PlasmaEnhancedCVD）：直接激发式微波谐振型PECVD装置：①工作原理：谐振腔套在石英管之外，微波天线(同轴线的内导体)将微波能量耦合至谐振腔内后，在腔内形成微波电场的驻波并引起谐振。(工业用微波频率一般为2.45GHz，波长12cm)通有反应气体的石英管穿过微波电场幅值最大的谐振腔中心部位，当微波电场强度超过气体击穿场强时，气体电离形成等离子体。在等离子体下游(xiàyóu)放置基片并调节至合适的温度，就可获得CVD薄膜的沉积。②主要优点：■无电极放电，不存在污染问题；■微波能量更高，可在低压下实现气体电离，等离子体的电荷密度更高，薄膜成分更纯净。电子回旋共振（ECR，ElectronCyclotronResonance）PECVD：①工作原理：微波能量由长方形波导窗耦合进入反应(fǎnyìng)器，使其中的反应(fǎnyìng)气体击穿电离形成等离子体。为进一步提高等离子体的电荷密度，还外加一个与微波电场相垂直的磁场。电子受力：电子回旋共振（ECR，ElectronCyclotronResonance）PECVD：①工作原理：电子在流场压力及电磁场的共同作用下，一方面向下游移动，一方面还以谐振频率发生高速回旋运动，电子运动路径电子与气体分子发生碰撞促使其电离的几率等离子体密度显著（>>1012e/cm3）ECR装置实际上就是一个超高电荷密度的离子源，其产生的等离子体具有极高的电荷密度和活性！②ECRPECVD的基本特点：■需要高真空环境：P=10-1~10-3Pa；■气体电离程度接近100%，比一般PECVD高3个数量级以上；■ECR离子束既是沉积物活性基团，又带有很高的能量(néngliàng)。③ECRPECVD的优势：●ECR是方向、能量(néngliàng)可控的离子源对复杂形状样品覆盖性好！●沉积离子都带有几个eV能量(néngliàng)改善表面扩散薄膜致密、性能好！●低气压低温沉积、沉积速率高、无电极污染。④应用：广泛用于沉积硅酸盐、半导体、光学/光伏材料薄膜。关于PECVD的小结：①PECVD不能替代(tìdài)其它CVD方法；②PECVD沉积的薄膜质量优于传统CVD；③PECVD应用广泛，但成本可能很高；④PECVD的主要优点在于：■低温沉积；■薄膜的内应力小、不易破损；■薄膜的介电性能好；■化学反应没有温度依赖性。课后思考题：1、画出CVD的基本工作原理框图。2、举例说明CVD的六种主要化学反应类型。3、分析对比激光辅助CVD、光化学气相沉积和PECVD的异同点。有机金属化合物CVD（MOCVD，MetalOrganicCVD）：概念：利用低气化(qìhuà)温度的有机金属化合物加热分解而进行气相外延生长薄膜的CVD方法，主要用于各种化合物、半导体薄膜的气相生长。有机(yǒujī)金属化合物CVD（MOCVD，MetalOrganicCVD）：感谢您的观看(guānkàn)！