双离子束溅射室温沉积生长SiC薄膜.ppt
上传人:天马****23 上传时间:2024-09-11 格式:PPT 页数:16 大小:4.2MB 金币:10 举报 版权申诉
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¤研究背景¤实验方法¤结果与分析¤结论一、研究背景SiC虽是间接带隙半导体,但目前人们研制的具有纳米结构的SiC材料已能有效发射蓝光。目前SiC体单晶的生产已日趋完善。但氮化镓材料发光效率极高,SiC材料发光效率却相对较低。如何提高SiC材料的发光效率现成为国际上的一个非常热门的话题的研究领域。☆化学气相沉积(CVD)☆分子束外延(MBE)☆磁控溅射☆脉冲激光淀积(PLD)☆离子注入:采用双离子束溅射的方法分别制备了无辅源离子轰击SiC薄膜、能量为150eV的辅源离子轰击SiC薄膜,通过SEM、XRD、Raman、透射谱等手段测试分析了薄膜的表面形貌、结构、光学性质等。二、实验方法三、结果和分析2.SiC薄膜结构的FTIR分析红外光谱是研究红外光通过样品被吸收的情况,红外光谱最适宜于研究不同原子的极性键(如C=O,O-H,C-H,N-H)的振动。3.SiC薄膜结构的Raman分析4.SiC光吸收特性4.2光吸收边的确定四、结论Thanksforyourattention!